Description
Norme d’étalonnage en damier EM-Tec pour l’imagerie SEM,_x000D_ étalonnage rapide et facile du grossissement de l’image complète
_x000D_ _x000D_ Norme d’étalonnage en damier EM-Tec pour l’imagerie SEM_x000D_L’étalon d’étalonnage EM-Tec Checkerboard a été développé pour un grossissement et un étalonnage d’image rapides et faciles des SEM et des SEM compacts. Il se compose de plus de 1,6 million de car
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rés qui forment 4 étapes de motifs en damier. Le plus petit damier mesure 10 x 10 um. Ces plus petits damiers forment alors un motif de 100 x 100 um et ceux-ci forment à nouveau des damiers de 1 x 1 mm. Les damiers de 1 x 1 mm forment alors un motif de 5 x 5 mm.
_x000D_Les plus petits carrés de 1 x 1 um sont constitués de chrome de 20 nm d’épaisseur et de 40 nm d’or sur le Cr, déposés sur un substrat de silicium conducteur ultra-plat dopé au bore <100>. Ces matériaux sont réputés inertes dans des conditions normales de travail. Le contraste de l’imagerie est bon pour l’imagerie SE et BSE, en particulier à un keV inférieur. L’échantillon d’étalonnage EM-Tec Checkerboard convient à l’étalonnage de grossissement SEM dans la plage de 20x à 50 000x avec une précision de pas de ± 0,1 % dans les directions X et Y. Également utile pour vérifier les distorsions d’image et la précision des platines SEM (motorisées).
_x000D_L’étalon d’étalonnage EM-Tec Checkerboard est traçable NIST. Exemple de certificat de traçabilité au niveau de la tranche fourni avec chaque étalon d’étalonnage EM-Tec Checkerboard.
_x000D_Caractéristiques de l’étalon d’étalonnage EM-Tec Checkerboard
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- Calibrage du grossissement et vérification de l’image rapides et faciles _x000D_
- Tailles des caractéristiques : 1 mm, 100 um, 10 um et 1 um _x000D_
- Précision du pas ± 0,1 % dans les directions X et Y _x000D_
- Idéal pour SEM et SEM compact _x000D_
- Excellent contraste avec SE et BSE, également à KeV inférieur _x000D_
- Traçable NIST _x000D_
- Grand damier 5 x 5 mm _x000D_
- La taille de la matrice est de 6 x 6 mm avec une épaisseur de 675 um _x000D_
- Substrat en silicium <100> dopé B avec une résistivité de 5 à 10 ohm-cm _x000D_
- Motif réalisé avec de l’or 40 nm sur du chrome de 20 nm d’épaisseur _x000D_
- Construction longue durée avec des matériaux pratiquement inertes _x000D_
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